坩埚的使用注意事项：
1、坩埚可在1450度以下使用，分透明和不透明两种。用电弧法制的半透明坩埚是拉制大直径单晶硅，发展大规模集成电路必不可少的基础材料。当今，世界半导体工业发达国家已用此坩埚取代了小的透明坩埚。他具有高纯度、耐温性强、尺寸大精度高、保温性好、节约能源、质量稳定等优点。
2、石英质脆，易破，使用时要注意。
3、除HF外，普通稀无机酸可用作清洗液。国内常用拉制单晶硅用石英坩埚18英寸和20英寸也有厂家使用22及以上的坩埚。目前国内坩埚生产厂家生产的18和20英寸坩埚技术都比较成熟。其生产使用原料石英砂主要由美国进口。国内产的石英砂纯度都达不到其要求。其原料里杂质在生产时高温熔制过程中产生黑点气泡等 对拉制单晶硅时其稳定性都有一定影响。
4、不能和HF接触，高温时，极易和苛性碱及碱金属的碳酸盐作用。
坩埚与支撑砖间的空隙：
1.坩埚与支撑砖间的空隙太小，坩埚受热膨胀后会受阻裂开，可在坩埚和炉壁顶部支撑砖间直接放置可燃物（插入小木片或纸板），在坩埚加热后，驻马店石墨坩埚，可燃物会燃烧掉从而留下足够的空间。
2.对于在侧面排废气的炉子，坩埚和炉壁之间可以用保温棉密封，然后用耐高温水泥固定。这样既可以防止因炉顶没有完全密封，而使坩埚顶部氧化而裂开，且在坩埚受热向上膨胀时不会受阻裂开，更起到保护发热丝的作用。
（注：建议使用炉沿盖来防止坩埚的氧化，石墨坩埚特点，顶部开裂和腐蚀。炉沿盖的内边要覆盖住坩埚内表面100mm处，能更好地避免坩埚受到外力撞击和被氧化。）
3.在倾转炉中，应该在坩埚一半高度的位置上，有一块或两块支撑砖在浇嘴的下方把坩埚固定。应在坩埚和支撑砖之间放入纸板，以保留足够的空间防止坩埚膨胀时受阻。
石墨坩埚扛氧化能力的提升办法有哪些？
对以金属硅粉为主要渗料，在密闭的匣钵内采用包埋法的工艺，保1健品电视专题片，能够制得构造公道拥有功效 梯度特点的合乎涂层，石墨坩埚多少钱，即sic过渡层-sic致密层-si-sio2多相涂层。以sic为主成份的外层，跟着高温保温时光的延伸，涂层厚度增添 ，sio2含量增多。
该涂层与基体的结合主要以化学结合为主，兼有机械结合，联合强度高。对涂层后的石墨坩埚进行扛氧化测试，测 试成果表白：包埋法制备的扛氧化涂层，在1100℃-1300℃存在较凸起的扛氧化机能，泰兴减速机。浸涂构成的单涂层重要以sic跟si3n4为主。
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